基板处理装置以及使用该装置转移基板的方法

摘要

一种基板处理装置包括：具有双层结构之第一处理单元，其中进行涂布制程之第一处理部份和进行显影制程之第二处理部份竖向布置；第一缓冲单元，提供一空间，在此暂时存放在第一处理部份经受处理之基板；第二缓冲单元，提供一空间，在此暂时存放将在第二处理部份经受处理之基板；以及介面单元，在第一缓冲单元和第二缓冲单元与进行曝光制程之第二处理单元之间转移基板。介面单元包括邻近第一处理单元设置之框架以及设置于该框架中之第一基板接收部份，第一基板接收部份接收在第一缓冲单元中接收并将要转移至第二处理单元之基板。