发明名称 透光性导电性膜之制法
摘要 本发明系关于一种透光性导电性膜,其系在透明支持体上图案化导电性金属部与可见光穿透性部所形成之透光性导电性膜,其特征系该导电性金属部系由1 μ m至40 μ m的网眼状细线所形成,该网眼图案为连续3m以上。该显示器用滤光片之制法系在高分子薄膜(A)上,使用连续地在高分子薄膜(A)的机械加工方向,由具有几何学的图案网眼形状之导电部的导电层(B)所形成之电磁波屏蔽材(C),藉由切断该网眼形状部分,使至少相对的2边端部为网眼形状。
申请公布号 TWI403761 申请公布日期 2013.08.01
申请号 TW095104813 申请日期 2006.02.14
申请人 富士软片股份有限公司 日本 发明人 冈崎贤太郎;森本哲光;冈村友之;北河敏久;诸桥慎;伊藤智章;南裕巳
分类号 G02B5/22;H05K9/00;G09F9/00 主分类号 G02B5/22
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市中山区复兴北路290号12楼
主权项
地址 日本