发明名称 分割溅镀靶及其制造方法
摘要 本发明之分割溅镀靶及其制造方法,其提供如下技术:在将复数个靶构件接合而得到之分割溅镀靶中,可藉由溅镀而有效地防止背板(backing plate)的构成材料混入成膜之薄膜中。本发明是有关一种分割溅镀靶,系在背板上,将复数个靶构件藉由低熔点焊锡接合而形成之分割溅镀靶,其特征系沿着接合之靶构件间所形成的间隙,在背板上设置保护体。
申请公布号 TWI403605 申请公布日期 2013.08.01
申请号 TW100127169 申请日期 2011.08.01
申请人 三井金属鑛业股份有限公司 日本 发明人 久保田高史;渡边广幸
分类号 C23C14/50;C23C14/34;H01L29/786 主分类号 C23C14/50
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项
地址 日本