发明名称 电浆处理装置
摘要 提供一种电浆处理装置或电浆处理方法,其可以减少真空容器内配置之试料之产生异物。;一种电浆处理装置具有:配置于真空容器内部的处理室;及配置于该处理室内的试料台;使用上述处理室内形成之电浆对该试料台上载置之试料进行处理者;具备:构件,其构成上述处理室之内侧壁面,于该内侧壁面具有介电体部分;排气装置,用于对上述处理室内进行排气;及电场供给装置,于上述处理室内未形成电浆状态下对上述构件供给电场;藉由上述排气装置对上述处理室进行排气之同时,急速变化由上述电场供给装置供给之上述电场之大小。
申请公布号 TWI406334 申请公布日期 2013.08.21
申请号 TW096103873 申请日期 2007.02.02
申请人 日立全球先端科技股份有限公司 日本 发明人 高桥主人;田村仁;田中基裕;吉开元彦
分类号 H01L21/3065;C23C16/513;H05H1/46 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本