| 发明名称 |
蚀刻剂及使用该蚀刻剂制造阵列基板之方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI480424 |
申请公布日期 |
2015.04.11 |
| 申请号 |
TW099115286 |
申请日期 |
2010.05.13 |
| 申请人 |
三星显示器公司 |
发明人 |
金俸均;郑锺铉;李炳珍;洪瑄英;朴弘植;金时烈;李骐范;曺三永;金相佑;申贤哲;徐源国 |
| 分类号 |
C23F1/28;C23F1/18;H05K3/06 |
主分类号 |
C23F1/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
| 主权项 |
一种用于蚀刻铜/钛双层之蚀刻剂，包括：约0.1重量百分比至约30重量百分比的过硫酸铵(NH4)2S2O8；约0.1重量百分比至约10重量百分比的无机酸；约0.1重量百分比至约10重量百分比的醋酸盐；约0.01重量百分比至约5重量百分比的含氟化合物；约0.01重量百分比至约5重量百分比的磺酸化合物；约0.01重量百分比至约5重量百分比的含硼化合物；约0.01重量百分比至约2重量百分比的唑类化合物；及其余为水，其中该蚀刻剂不包含过氧化氢。 |
| 地址 |
南韩 |
