| 主权项 |
1.一种供连续式地监视一含HC1之外流气态废气之方法,其包括:从该外流气流萃取该废气之一样品;在位于该外流气流内之样品管移送该样品以加热该样品达到所要之样品温度;热过滤该样品;经由一加热之移送管将该样品移送到一加热之分析站;保持该样品之流速在至少每分钟10升;及用质谱仪分析该样品;其中该样品维持在不低于190℃之温度。2.依据申请专利范围第1项所述之方法,其中之热过滤步骤包括经由一系列之过滤器过滤之其包含第一个过滤器以除去大的颗粒及一第二个过滤器以除去小的颗粒。3.依据申请专利范围第2项之方法,其进一步包含一第二个过滤步骤于该移送步骤之后其中该样品经过位于该分析站之内的第二系列之过滤器且其包括一第一个过滤件以移除大的颗粒及一第二个过滤件以移除小的颗粒。4.依据申请专利范围第3项之方法,其进一步包含一步骤,在该分析步骤之前,供分开该样品成为两部份并引导第一部份到一质谱仪及引导第二部份到一总碳氢化合物分析仪。5.依据申请专利范围第4项之方法,其中之分析步骤连续式地监视SO2,NO,HCl,Cl2,N2,O2,Co2及氩。6.依据申请专利范围第1项之方法,其中之分析步骤连续式地监视SO2,NO,HCl,Cl2,N2,O2,CO2及Ar。7.一种提供一含有气体、蒸气及颗粒物质之流出气流之组成上具代表性之气态成份之样品的系统,其包括:位于该流出气流之内供连锁式萃取该气流之样品之取样组件;和该取样组件有流动沟通之导管组件,该导管组件是被该流出气流所加热;加热之过滤组件其和该导管组件流动沟通,该过滤组件配置用以移除该样品之颗粒;至少一个加热之移送管和该加热之过滤组件流动沟通;和该移送管流动沟通之分析组件,该分析组件包含一加热之样品泵及一加热之毛细管供引入样品到质谱仪,该泵是位于该毛细管之上游且很靠近之,该泵在该系统内维持在一至少每分钟10升之流速,其中所指之该取样组件,导管组件,加热之过滤组件,加热之移送管及该泵是维持在一不低190℃之温度。8.依据申请专利范围第7项之系统,其中之泵维持在一每分钟至少15升之流速。9.依据申请专利范围第7项之系统,其中之取样组件包含一架于金属导管上之30微米滤片。10.依据申请专利范围第7项之系统,其中该流出气流是经至少一个风扇引导通过烟囱,该风扇一风扇入口处引入流出气流,该取样组件是位于离该风扇入口下游约8个烟囱直径之处。11.依据申请专利范围第7项之系统,其中该流出气流是经至少一个风扇引导通过烟囱,该烟囱有一废气排出端,该取样组件是位于离该烟囱废气排出端上游约8个烟囱直径之处。12.依据申请专利范围第7项之系统,其中该系统在该取样组件及该加热之过滤组件之间包含一加热之柜,该柜包含有提供该取样组件维修用之组件。13.依据申请专利范围第12项之系统,其中该位于取样组件及该加热之过滤组件之间之加热柜包括供注射气体到该系统之组件而其方向是相反于样品流经该系统之方向。14.依据申请专利范围第7项之系统,其中该系统位于该取样组件及该受热之过滤组件之间包含一加热之柜,该柜包含有供注射校正气体到该系统之组件其紧邻于该取样组件。15.一种连续式排气监视系统,其包括申请专利范围第7项之系统及一包含一纲型之离子化幕之质谱仪。16.依据申请专利范围第7项之系统,其中该系统包含一电脑控制之多接口阀和该质谱仪液动沟通,其中该多接口阀 |
