一种硅基OLED显示像素的制备方法

摘要

本发明公开了一种硅基OLED显示像素的制备方法，包括像素背板工艺和有机发光层工艺，其中所述像素背板工艺包括：(1)对基片进行金属电极层镀膜；(2)涂光刻胶；(3)曝光；(4)显影；(5)刻蚀；(6)清洗；(7)真空退火；所述有机发光层工艺包括：(8)有机遮罩对位校准；(9)三次有机蒸镀；(10)ITO镀膜；(11)阻隔层镀膜。在每次蒸镀有机发光像素单元前均进行有机遮罩对位校准，避免了不同像素单元间镀膜窜扰，有机遮罩在z方向上与像素电极间留有空隙，防止了对像素电极或对已蒸镀的像素单元造成污染。同时由于制得的有机发光像素单元尺寸和定位精确，三种颜色的混色比优异，使得图像颜色正常、不失真。

主权项

一种硅基OLED显示像素的制备方法，其特征在于，包括像素背板工艺和有机发光层工艺，其中所述像素背板工艺包括：(1)对基片进行金属电极层镀膜，所述镀膜为在金属电极上依次制作Ti/Al/Pt三层金属堆叠电极，得到金属电极层；(2)涂光刻胶，在所述金属电极层上涂覆光刻胶；(3)曝光，将步骤(2)中涂覆有光刻胶的基片在曝光机上曝光；(4)显影，将步骤(3)中曝光后的基片低转速下旋转喷洒显影液，然后纯水冲洗，并在高转速下甩干；(5)刻蚀，除去无光刻胶覆盖部分的金属电极层；(6)清洗，首先将步骤(5)中经过刻蚀的半成品采用N‑甲基吡咯烷酮液体浸泡，然后用去离子水浸泡清洗，清洗后高速甩干，再烘干；(7)真空退火，将步骤(6)中清洗烘干后的半成品在真空热板上放置，即得到具有精细像素电极的硅基背板半成品；所述有机发光层工艺包括：(8)有机遮罩对位校准，将步骤(7)中得到的具有精细像素电极的硅基背板半成品在有机镀膜机台上在xy方向上与刻蚀图样进行CCD图像对位重合；(9)三次有机蒸镀，分别在所述像素电极上蒸镀红、绿、蓝三色有机发光像素单元；(10)ITO镀膜，在步骤(9)得到的有机发光像素表面镀ITO膜；(11)阻隔层镀膜，在步骤(10)中得到ITO膜的上表面制作厚度Al₂O₃阻隔层，即得到具有红、绿、蓝三基色有机发光像素单元的背板结构。