用于TFT平板显示器的超高纯铝板细晶靶材的制备方法

摘要

用于TFT平板显示器的超高纯铝板细晶靶材的制备方法,通过轧制工艺和退火工艺，控制变形量和温度，细化晶粒，改变挤压产生的纤维状晶粒组织，易于等轴化，使得晶粒尺寸达到200μm甚至100μm以下，且粒度均匀，且该靶材在200℃工作时组织稳定，从而满足了大尺寸TFT平板显示器靶材的应用条件。降低烧结能耗,在提高靶材以及TFT性能的同时，实现靶材及TFT器件成本的降低，适合规模化生产。

主权项

用于TFT平板显示器的超高纯铝板细晶靶材的制备方法,其特征在于，包含以下步骤：步骤一：选取纯度大于99.999wt％的高纯铝铸锭为原材料，轧制之前对其表面进行简单的处理，保证表面光洁；步骤二：将高纯铝板材放至可逆热轧机中进行轧制处理，轧制前加热温度范围为300℃～450℃，进行8～12道次轧制过程，控制高纯铝板材总变形量为90％以上；步骤三：使用校平机校平板材，保证其平整度；步骤四：在200℃～300℃条件下对校平后的高纯铝板材进行退火处理,退火时间2～4小时；步骤五：通过表面铣削加工后，平均粒度在100～200μm，获得高纯铝板靶材。