| 发明名称 | 半导体膜的制造方法、半导体膜制造用原料粒子、半导体膜、光电极以及色素敏化太阳能电池 | ||
| 摘要 | 本发明是一种半导体膜的制造方法，其特征在于，通过将含有半导体粒子的原料粒子吹附于基材而在所述基材上制成半导体膜，该半导体粒子是使抑制半导体粒子彼此凝聚的凝聚抑制物质附着于表面而成的半导体粒子。 | ||
| 申请公布号 | CN105164316A | 申请公布日期 | 2015.12.16 |
| 申请号 | CN201480024102.5 | 申请日期 | 2014.07.04 |
| 申请人 | 积水化学工业株式会社 | 发明人 | 片桐友章;藤沼尚洋;功刀俊介;中岛节男 |
| 分类号 | C23C24/04(2006.01)I;H01G9/20(2006.01)I | 主分类号 | C23C24/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种半导体膜的制造方法，其特征在于，通过将含有半导体粒子的原料粒子吹附于基材而在所述基材上制成半导体膜，所述半导体粒子是使抑制半导体粒子彼此凝聚的凝聚抑制物质附着于表面而成的半导体粒子。 | ||
| 地址 | 日本大阪 | ||