间断式结构化研磨物件及抛光工件之方法;INTERRUPTED STRUCTURED ABRASIVE ARTICLE AND METHODS OF POLISHING A WORKPIECE

摘要

本文揭示间断式结构化研磨物件，其包含研磨层，该研磨层包含经成形研磨复合物，该等经成形研磨复合物从背衬之第一主表面向外延伸，该等经成形研磨复合物系紧固至该背衬。该研磨层界定至少一开放区域，该至少一开放区域无该等经成形研磨复合物且可部分地或完全地延伸通过该背衬。在一些实施例中，该等开放区域之各者包含至少1.5平方公分之圆形区域，且当合并时该等开放区域所具有之总面积为该背衬之第一主表面之面积的至少百分之10。间断式研磨物件可用在单面抛光程序中。