| 发明名称 | 图案化膜层的制造方法以及电致变色装置的制造方法 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI512791 | 申请公布日期 | 2015.12.11 |
| 申请号 | TW102130484 | 申请日期 | 2013.08.26 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 涂峻豪;詹仁宏;谢昊伦;龚国森;林亭均;曾任培 |
| 分类号 | H01L21/203;G02F1/15 | 主分类号 | H01L21/203 |
| 代理机构 | 代理人 | 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 | |
| 主权项 | 一种图案化膜层的制造方法，包含：提供一基材，其中该基材具有一第一面以及相对于该第一面之一第二面；提供一材料源，该第一面系朝向该材料源，且该材料源系用以提供复数个带电粒子；提供一磁性元件，其中该第二面设置于该磁性元件以及该第一面之间；以及藉由该磁性元件，以将该些带电粒子沉积于该第一面上，而形成一图案化膜层，其中该些带电粒子在该第一面上的至少二区域形成不同的膜层厚度，以形成该图案化膜层。 | ||
| 地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 | ||