| 摘要 |
<p>본 발명은 반도체 웨이퍼 또는 LCD(Liquid Crystal Display) 기판 등의 세정 시 고효율의 세정효과, 높은 생산성 유지, 낮은 유지보수비용(CoO), 친환경 적인 요소를 충족시킴과 아울러, 정전기적 전하에 따른 재오염 및 손상을 방지하면서 반도체 디바이스의 특성 및 수율에 치명적인 영향을 미치는 오염물을 효과적으로 제거하기 위한 반도체 세정 장치의 구성 중 전해조에서 생성되어 버퍼 탱크에 보관중인 전해이온수를 필터링하여 세정 대상체에 공급하기 위한 전해이온수 공급 장치에 관한 것으로, 파티클 필터(616) 및 메탈 이온 필터(617)에 의해 전해이온수에 포함된 파티클 및 메탈 이온을 제거할 수 있으므로 전해이온수의 세정 성능을 향상시키고, 밸브(618)의 동작에 의해 파티클 필터(616)내의 기포를 제거할 수 있고 밸브(622)의 동작에 의해 메탈 이온 필터(617)내의 기포를 제거할 수 있으므로 파티클 필터(616) 및 메탈 이온 필터(617)의 성능을 향상시킬 수 있으며, 밸브(618,622)에 의해 파티클 필터(616) 또는 메탈 이온 필터(617)의 교체 시 해당 배관내의 압력을 외부로 배출할 수 있으므로 해당 필터의 교체를 쉽게 할 수 있다.</p> |
