发明名称 氮化物半导体发光二极体晶片及其制造方法
摘要 一种氮化物半导体发光二极体晶片,其系包括一透明基(101)与一形成于该基板上部表面上的氮化物半导体叠层结构(102-106),该氮化物半导体叠层结构包括一发光层(104)与复数个其它半导体层,该基板(101)具有一任意结晶学主要表面以及具有大于120μm的厚度,藉以提供由该晶片中抽取出光线的改良效率。该晶片的至少一分割平面与垂直于该基板之上部表面的平面夹一弯角,而且该基板的下部表面,比起该氮化物半导体叠层结构的上部表面,具有较小的面积,以进一步改善由该晶片中抽取出光线的效率。
申请公布号 TWI255565 申请公布日期 2006.05.21
申请号 TW093133921 申请日期 2004.11.05
申请人 夏普股份有限公司 发明人 山本健作;幡俊雄
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种氮化物半导体发光二极体晶片,其系包括: 一透明基板,以及 一氮化物半导体叠层结构,其系形成于该基板的上 部表面上, 该氮化物半导体叠层结构包括一发光层与复数个 其它半导体层,该基板具有一任意结晶学主要表面 以及具有大于120m的厚度,藉以改善由晶片中抽 取出光线的效率。 2.一种氮化物半导体发光二极体晶片,其系包括: 一透明基板,以及 一氮化物半导体叠层结构,其系形成于该基板的上 部表面上, 该氮化物半导体叠层结构包括一发光层与复数个 其它半导体层,该基板具有一任意结晶学主要表面 ,该晶片的至少一分割平面与垂直于该基板之上部 表面的平面夹一弯角,且比起该氮化物半导体叠层 结构的上部表面,该基板的下部表面具有较小的面 积,藉以改善由晶片中抽取出光线的效率。 3.如请求项1之氮化物半导体发光二极体晶片,其中 该晶片的至少一分割平面与垂直于该基板之上部 表面的平面夹一弯角,且比起该氮化物半导体叠层 结构的上部表面,该基板的下部表面具有较小的面 积。 4.如请求项1之氮化物半导体发光二极体晶片,其中 该基板是一绝缘基板。 5.如请求项1之氮化物半导体发光二极体晶片,其中 该基板是一蓝宝石基板或一碳化矽基板。 6.一种制造如请求项1之氮化物半导体发光二极体 晶片的方法,其系包括以下步骤: 形成一磊晶晶圆,其系具有复数个氮化物半导体层 ,该氮化物半导体层包括一发光层,该发光层是藉 晶体成长于在基板的上部表面上,以及 使用雷射光分割该晶圆,以得到该晶片,藉以改善 该晶片的良率。 7.如请求项6之方法,其中系使用一固态雷射装置作 为该雷射光的来源。 图式简单说明: 图1A与1B是显示出依据本发明第一实施例将磊晶晶 圆分割成复数个GaN基质化合物半导体发光二极体 晶片之方法的剖示图。 图2是显示出依据本发明第二实施例将磊晶晶圆分 割成复数个GaN基质化合物半导体发光二极体晶片 之方法的剖示图。 图3是显示出依据本发明第三实施例将磊晶晶圆分 割成复数个GaN基质化合物半导体发光二极体晶片 之方法的剖示图。 图4是显示出依据本发明第四实施例将磊晶晶圆分 割成复数个GaN基质化合物半导体发光二极体晶片 之方法的剖示图。
地址 日本
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