发明名称 |
一种研磨垫及其制备方法、使用方法 |
摘要 |
一种研磨垫,包括:基底和固结在所述基底上的若干分立的磨料块,所述磨料块具有至少两种高度。本发明利用具有至少两种高度的磨料块,使得研磨垫在研磨晶圆的过程中,不会因为长时间的研磨导致研磨速率大幅下降,从而使得晶圆的研磨程度易于精确控制,提高了晶圆研磨的效果及良率。本发明还提供一种制备所述研磨垫的方法,利用该方法可以方便地制备本发明的研磨垫。相应地,本发明还提供应用所述研磨垫进行研磨的使用方法。 |
申请公布号 |
CN102601747B |
申请公布日期 |
2015.12.09 |
申请号 |
CN201110023424.6 |
申请日期 |
2011.01.20 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
邵群 |
分类号 |
B24D13/14(2006.01)I;B24D18/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24D13/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种研磨垫,包括:基底和固结在所述基底上的若干分立的磨料块,其特征在于,所述磨料块具有至少两种高度,当所述磨料块具有两种高度时,所述两种高度的磨料块高低间隔分布,当所述磨料块具有三种及其以上高度时,所述磨料块按从高到低或从低到高或高低间隔的顺序周期性分布;其中,不同高度的所述磨料块的成分相同,均由磨料颗粒与树脂胶粘剂构成,所述磨料块的形状为圆柱形或梯形台,所述高度低于最高高度的磨料块在研磨液中浸泡一段时间后,磨料颗粒能露出一部分起研磨作用。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |