发明名称 |
电枢线圈及其制造方法 |
摘要 |
本发明所涉及的电枢线圈形成为,特别是在由卷绕于定子铁心中所形成的向径向内侧开口的多个槽部的多个线圈导体所构成的电枢线圈中,多个所述线圈导体的周向宽度越靠近径向内侧越窄,从而形成为梯形形状,并且多个所述线圈导体的所述槽部内的各个截面积基本相同,且越是配置于径向内侧其周向宽度成型得越细,一个所述线圈导体形成为凸形状,并且另一个所述线圈导体形成为沿着所述凸形状的凹形状。 |
申请公布号 |
CN105144549A |
申请公布日期 |
2015.12.09 |
申请号 |
CN201380075963.1 |
申请日期 |
2013.04.26 |
申请人 |
三菱电机株式会社 |
发明人 |
田村宏司;田村修一;山村明弘;土井一诚;松尾宏幸;西村泰和;川崎祥子;森昭彦 |
分类号 |
H02K3/12(2006.01)I;H02K3/48(2006.01)I;H02K15/04(2006.01)I |
主分类号 |
H02K3/12(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
金红莲 |
主权项 |
一种电枢线圈,其特征在于,所述电枢线圈形成为,在将插通线圈导体的多个槽部配置为环状、并将多个所述线圈导体排列插通到所述槽部内而得到的电枢线圈中,多个所述线圈导体的周向宽度越靠近径向内侧越窄,从而形成为大致梯形形状,并且多个所述线圈导体的所述槽部内的各个截面积基本相同,且越是配置于径向内侧其周向宽度成型得越细,一个所述线圈导体形成为凸形状,并且另一个所述线圈导体形成为沿着所述凸形状的凹形状。 |
地址 |
日本东京 |