发明名称 厚膜电阻阻值控制方法
摘要 本发明涉及一种厚膜电阻阻值控制方法,包括以下步骤:(1)、当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相一致时,将厚膜电阻阻值按照设计值减小2.5%进行设计;当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相垂直时,将厚膜电阻阻值按照设计值增大2.5%进行设计;(2)、当周围加厚膜层厚度分别在20μm~30μm、30μm~40μm以及40μm~60μm范围时,厚膜电阻阻值按照设计值分别增大5%、10%以及15%进行设计;(3)、通过调整电阻膜厚来控制厚膜电阻阻值,按以下公式进行调整:标称方阻值/实际方阻值=实际电阻膜厚/标准电阻膜厚。本发明优点在于:一是控制住厚膜电阻一致性,保证了厚膜电阻质量;二是避免试阻样品浪费,提高了厚膜电路成膜基板加工成品率;三是节约大量试阻时间,提高了厚膜电路成膜基板生产效率。
申请公布号 CN102915818B 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201210377112.X 申请日期 2012.10.08
申请人 华东光电集成器件研究所 发明人 尤广为;邹建安;符宏大;鲍秀峰
分类号 H01C17/065(2006.01)I;H01L21/70(2006.01)I 主分类号 H01C17/065(2006.01)I
代理机构 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 代理人 杨晋弘
主权项  厚膜电阻阻值控制方法,根据厚膜电阻设计方向进行阻值调整,当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相一致时,将厚膜电阻阻值按照设计值减小2.5% 进行设计;当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相垂直时,将厚膜电阻阻值按照设计值增大2.5% 进行设计,其特征在于包括以下步骤:厚膜电阻周围有加厚膜层时的阻值调整,当周围加厚膜层厚度在20μm ~ 30μm 范围时,厚膜电阻阻值按照设计值增大5% 进行设计;当周围加厚膜层厚度在30μm ~ 40μm范围时,厚膜电阻阻值按照设计值增大10% 进行设计;当周围加厚膜层厚度在40μm ~60μm 范围时,厚膜电阻阻值按照设计值增大15% 进行设计。
地址 233042 安徽省蚌埠市经济开发区财院路10号