防止胶吸入的匀胶机托盘

摘要

本发明公开了一种防止胶吸入的匀胶机托盘，包括：硅片承片台、真空吸片结构和位于真空吸片结构上的吸口保护结构；所述硅片承片台的上端设有硅片承载平面、中间开设有一凹进的储胶槽，在所述储胶槽的中间设有一凸台；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部；所述吸口保护结构位于所述凸台的顶端。通过上述方式，本发明能够有效地阻挡光刻胶在甩动过程中被吸入真空吸片口内，同时能防止流入储胶槽内的光刻胶达到一定高度后再次被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞。

主权项

一种防止胶吸入的匀胶机托盘，其特征在于，包括：硅片承片台、真空吸片结构和位于真空吸片结构上的吸口保护结构；所述硅片承片台的上端设有硅片承载平面、中间开设有一凹进的储胶槽，在所述储胶槽的中间设有一凸台；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm；所述吸口保护结构位于所述凸台的顶端，在所述吸口保护结构内还设有“T”状抽气通道，并且所述抽气通道的下端口与所述真空吸片口连通。