发明名称 |
环形等离子体处理装置 |
摘要 |
一种包含真空室的等离子体处理装置,该真空室包含:管道、处理室、用于将气体引入真空室内的第一气体输入口,以及用于从真空室中排出气体的泵出口。磁芯包围着管道。射频电源的输出与磁芯电连接。射频电源给磁芯供电,由此在真空室内形成环形等离子体回路放电。用于在等离子体处理期间支撑工件的台板位于处理室内。 |
申请公布号 |
CN105144849A |
申请公布日期 |
2015.12.09 |
申请号 |
CN201480014623.2 |
申请日期 |
2014.03.14 |
申请人 |
普拉斯玛比利提有限责任公司 |
发明人 |
W·霍尔伯;R·J·巴斯奈特 |
分类号 |
H05H1/24(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I |
主分类号 |
H05H1/24(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
秦晨 |
主权项 |
一种等离子体处理装置,包含:a)真空室,包含:管道、处理室、用于将气体引入所述真空室的第一气体输入口,以及用于将气体从所述真空室排出的泵出口;b)包围所述管道的磁芯;c)具有与所述磁芯电连接的输出的射频电源,所述射频电源给所述磁芯供电,由此在所述真空室内形成环形等离子体回路放电;以及d)用于支撑在等离子体处理期间位于所述处理室内的工件的台板。 |
地址 |
美国得克萨斯 |