发明名称 电容式指纹辨识的结构及其制造方法
摘要 本发明公开一种电容式指纹辨识的结构,包括:多个感测电极、一第一保护层以及一介电材料层。并且,本发明还包括一电容式指纹辨识的结构制造方法。其中,该第一保护层设置有至少一沟槽,该至少一沟槽对应设置于该多个感测电极位置处之上,该介电材料层填充于该至少一沟槽,其中该介电材料层的介电系数为4-20之间。本发明藉由高介电(high-k dielectric)材料填充于该至少一沟槽,可有效增加电容式指纹辨识的灵敏度。
申请公布号 CN105138969A 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201510477203.4 申请日期 2015.08.06
申请人 映智科技股份有限公司 发明人 蔡宪庆
分类号 G06K9/00(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I 主分类号 G06K9/00(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 王玉双;祁建国
主权项 一种电容式指纹辨识的结构,其特征在于,包括:多个感测电极,形成为阵列排列,用以作为指纹辨识区域;一第一保护层,设置于该多个感测电极之上,该第一保护层设置有至少一沟槽,该至少一沟槽对应设置于该多个感测电极位置处之上;以及一介电材料层,设置于该第一保护层之上,并且该介电材料层填充于该至少一沟槽,其中该介电材料层的介电系数为4‑20之间。
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