发明名称 |
电容式指纹辨识的结构及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开一种电容式指纹辨识的结构,包括:多个感测电极、一第一保护层以及一介电材料层。并且,本发明还包括一电容式指纹辨识的结构制造方法。其中,该第一保护层设置有至少一沟槽,该至少一沟槽对应设置于该多个感测电极位置处之上,该介电材料层填充于该至少一沟槽,其中该介电材料层的介电系数为4-20之间。本发明藉由高介电(high-k dielectric)材料填充于该至少一沟槽,可有效增加电容式指纹辨识的灵敏度。 |
申请公布号 |
CN105138969A |
申请公布日期 |
2015.12.09 |
申请号 |
CN201510477203.4 |
申请日期 |
2015.08.06 |
申请人 |
映智科技股份有限公司 |
发明人 |
蔡宪庆 |
分类号 |
G06K9/00(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I |
主分类号 |
G06K9/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
王玉双;祁建国 |
主权项 |
一种电容式指纹辨识的结构,其特征在于,包括:多个感测电极,形成为阵列排列,用以作为指纹辨识区域;一第一保护层,设置于该多个感测电极之上,该第一保护层设置有至少一沟槽,该至少一沟槽对应设置于该多个感测电极位置处之上;以及一介电材料层,设置于该第一保护层之上,并且该介电材料层填充于该至少一沟槽,其中该介电材料层的介电系数为4‑20之间。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行一路1号1楼B3-2室 |