POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
摘要
<p>토출 노즐과 기판을 상대적으로 이동시킴으로써 기판의 도포면 전체에 레지스트 조성물을 도포하는 공정을 갖는 토출 노즐식 도포법에 사용되는 포지티브형 레지스트 조성물로서, 알칼리 가용성 노볼락 수지 (A) 및 나프톡시퀴논디아지드기함유 화합물 (C) 를, 탄소수 6 이상의 디올 (S1) 을 함유하는 유기 용제 (S) 에 용해하여 이루어지는 포지티브형 레지스트 조성물.</p>
