Halbleiterwafer und Verfahren zur Bearbeitung eines Halbleiterwafers

摘要

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Halbleiterwafer umfassen: einen Halbleiterkörper, der eine integrierte Schaltungsstruktur umfasst; und zumindest eine tetraedrische amorphe Kohlenstoffschicht, die zumindest über oder in der integrierten Schaltungsstruktur ausgebildet ist, wobei die zumindest eine tetraedrische amorphe Kohlenstoffschicht einen Stoffmengenanteil von sp3-hybridisiertem Kohlenstoff von mehr als etwa 0,4 und einen Stoffmengenanteil von Wasserstoff von weniger als etwa 0,1 umfassen kann.