| 发明名称 | 准分子激光退火装置和方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种准分子激光退火装置，包括用于承载非晶硅薄膜的载台、准分子激光发生器、激光点阵发生器和扫描激光发生器，所述激光点阵发生器用于将所述准分子激光发生器发出的激光转换为照射到所述非晶硅薄膜的干涉激光点阵，扫描激光发生器用于将所述准分子激光发生器发出的激光转换为照射到所述非晶硅薄膜的扫描激光；本发明还提供了非晶硅薄膜的退火方法，在所述具有非晶硅薄膜的基板上的非晶硅薄膜层照射激光点阵，再在所述具有非晶硅薄膜的基板上的非晶硅薄膜层照射激光点阵，使得非晶硅转化为大晶粒尺寸的多晶硅。 | ||
| 申请公布号 | CN105118773A | 申请公布日期 | 2015.12.02 |
| 申请号 | CN201510383334.6 | 申请日期 | 2015.07.03 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 发明人 | 何超;余威 |
| 分类号 | H01L21/268(2006.01)I;H01L21/324(2006.01)I;B23K26/082(2014.01)I;B23K26/352(2014.01)I | 主分类号 | H01L21/268(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人 | 郝传鑫;熊永强 |
| 主权项 | 一种准分子激光退火装置，包括用于承载非晶硅薄膜的载台、准分子激光发生器，其特征在于，还包括：激光点阵发生器，用于将所述准分子激光发生器发出的激光转换为照射到所述非晶硅薄膜的干涉激光点阵；扫描激光发生器，用于将所述准分子激光发生器发出的激光转换为照射到所述非晶硅薄膜的扫描激光；能量调节装置，用于调节所述干涉激光点阵和所述扫描激光的能量大小。 | ||
| 地址 | 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 | ||