| 发明名称 |
- - SPIN-ON PROTECTIVE COATINGS FOR WET-ETCH PROCESSING OF MICROELECTRONIC SUBSTRATES |
| 摘要 |
<p>반도체 및 MEMS 장치를 생산하는 동안 습식 식각 공정에서 사용하기 위한 새로운 보호코팅층을 제공한다. 층은 프라이머층, 제 1 보호층, 및 선택적으로 제 2 보호층을 포함한다. 프라이머층은 바람직하게는 용매 시스템에서 유기 실란 화합물을 포함한다. 제 1 보호층은 스티렌, 아크릴로니트릴로부터 제조되는 열가소성 공중합체, 및 에폭시기를 포함하는 단량체, 올리고머, 및 중합체와 같은 상용성 화합물; 폴리(스티렌-코-알릴 알코올); 및 이들의 혼합물을 포함한다. 제 2 보호층은 열에 의해 가교결합되거나 가교결합되지 않을 수 있는 염소화 중합체와 같은 고도로 할로겐화된 중합체를 포함한다.</p> |
| 申请公布号 |
KR101573946(B1) |
申请公布日期 |
2015.12.02 |
| 申请号 |
KR20107007839 |
申请日期 |
2008.08.29 |
| 申请人 |
브레우어 사이언스 인코포레이션 |
发明人 |
수, 구;예스, 킴버리, 에이.;프라임, 토니, 디. |
| 分类号 |
C08K5/1515;C08L25/04;C08L33/20;C09D125/04 |
主分类号 |
C08K5/1515 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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