| 发明名称 | 成膜方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够实现所形成的膜密度的提高的成膜方法。对此，在本发明的成膜方法中，通过向基板(10)雾状喷射雾化的溶液，从而在基板上形成膜。接下来，中断成膜工序。接下来，向基板照射等离子。 | ||
| 申请公布号 | CN105121699A | 申请公布日期 | 2015.12.02 |
| 申请号 | CN201380075709.1 | 申请日期 | 2013.04.17 |
| 申请人 | 东芝三菱电机产业系统株式会社;国立大学法人京都大学;高知县公立大学法人 | 发明人 | 平松孝浩;织田容征;白幡孝洋;藤田静雄;川原村敏幸 |
| 分类号 | C23C16/56(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 刘建 |
| 主权项 | 一种成膜方法，其特征在于，包括：(A)通过向基板(10)雾状喷射雾化的溶液，从而在所述基板上形成膜的工序；(B)中断所述工序(A)的工序；以及(C)在所述工序(B)后，向所述基板照射等离子的工序。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||