发明名称 一种柔性基底及其制备方法、显示装置
摘要 本发明提供一种柔性基底及其制备方法、柔性显示器件及其制备方法,显示基板,显示面板,显示装置,用于解决现有技术柔性器件在制备过程激光能量对薄膜晶体管的多晶硅有源层产生不良影响和在柔性显示器件在剥离过程中容易造成柔性层碳化的问题。本发明的柔性基底包括设置在两层柔性层之间的紫外光吸收层,该紫外光吸收层能在有源层采用准分子激光辐照对非晶硅转化多晶硅时,具有夹心紫外光吸收层的柔性基底,能够利用紫外光吸收层吸收多余的激光能量,防止柔性层受热碳化;而当对柔性基底和玻璃衬底分离时,用于剥离的激光束从玻璃衬底射入,柔性基底能够利用紫外光吸收层吸收多余的激光能量,防止激光对有源层性能产生不良影响。
申请公布号 CN105118837A 申请公布日期 2015.12.02
申请号 CN201510591883.2 申请日期 2015.09.16
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 谢春燕;谢明哲
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 柴亮;张天舒
主权项 一种柔性基底,其特征在于,包括第一柔性层和第二柔性层,及设置在所述第一柔性层和所述第二柔性层之间的紫外光吸收层,其中,所述紫外光吸收层的对紫外光的吸收能力大于等于所述第一柔性层和所述第二柔性层对紫外光的吸收能力。
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