发明名称 |
流体液滴喷射装置 |
摘要 |
本发明公开了一种用于喷射流体液滴的系统。所述系统包括:基板,所述基板具有包括流体抽吸室的流路体;以使流体流动的方式连接到流体抽吸室的下降装置;以及以使流体流动的方式连接到所述下降装置的喷嘴。喷嘴被布置成用于通过形成于基板外表面中的出口喷射流体液滴。流路体还包括以使流体流动的方式连接到下降装置的再循环通道。所述用于喷射流体液滴的系统还包括以使流体流动的方式连接到流体抽吸室的流体供应容器、以使流体流动的方式连接到再循环通道的流体返回容器以及以使流体流动的方式连接流体返回容器和流体供应容器的泵。在一些实施方式中,通过流路体的流体流具有足以迫使气泡或污染物通过流路体的流量。 |
申请公布号 |
CN103640336B |
申请公布日期 |
2015.12.02 |
申请号 |
CN201310604291.0 |
申请日期 |
2009.05.21 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
保罗·A·侯森汤恩;马茨·奥托松;京相忠;永岛完司 |
分类号 |
B41J2/14(2006.01)I |
主分类号 |
B41J2/14(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
汤雄军 |
主权项 |
一种用于喷射流体液滴的装置,包括:基板,所述基板具有形成于所述基板中的流体抽吸室;下降装置,所述下降装置形成于所述基板中,并且以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室;喷嘴,所述喷嘴形成于所述基板中并以使流体流动的方式连接到所述下降装置;致动器,所述致动器与所述流体抽吸室形成压力连通,并且能够产生用于使流体液滴从所述喷嘴喷出的发射脉冲,所述发射脉冲具有发射脉冲频率;以及再循环通道,所述再循环通道形成于所述基板中;所述再循环通道在所述发射脉冲频率下的阻抗至少比所述喷嘴的阻抗高两倍。 |
地址 |
日本国东京都 |