发明名称 一种制备薄膜式电容负极碳箔的连续卷绕真空离子镀膜机
摘要 本发明公开了一种制备薄膜式电容负极碳箔的连续卷绕真空离子镀膜机,具有镀膜机箱体,镀膜机箱体内依次间隔设有放卷室、过渡室、镀膜室和收卷室,所述放卷室内设有放卷轮盘,所述过渡室内设有基膜传送导辊,所述收卷室内设有收卷轮盘和收卷轮盘驱动电机,所述镀膜室的箱体顶壁和底壁上分别设有磁控靶,所述过渡室和镀膜室的数量为多个,交错设置在所述放卷室和收卷室之间;所述镀膜室的箱体顶壁和底壁上设置的磁控靶分别为铬材料磁控靶和石墨材料磁控靶。采用上述连续卷绕真空离子镀膜机可以一次完成固态电容负极碳箔的制备,制备碳箔的成品率高。
申请公布号 CN103451615B 申请公布日期 2015.12.02
申请号 CN201310413206.2 申请日期 2013.09.12
申请人 辽宁北宇真空科技有限公司 发明人 关秉羽
分类号 C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/56(2006.01)I
代理机构 铁岭天工专利商标事务所 21105 代理人 靳万清
主权项 一种制备薄膜式电容负极碳箔的连续卷绕真空离子镀膜机,具有镀膜机箱体,镀膜机箱体内依次间隔设有放卷室(1)、过渡室(2)、镀膜室(3)和收卷室(4),所述放卷室(1)内设有放卷轮盘(11),所述过渡室(2)内设有基膜传送导辊(21),所述收卷室(4)内设有收卷轮盘(41)和收卷轮盘驱动电机,所述镀膜室(3)的箱体顶壁和底壁上分别设有磁控靶,其特征在于:所述过渡室(2)和镀膜室(3)的数量为多个,交错设置在所述放卷室(1)和收卷室(4)之间;所述镀膜室(3)的箱体顶壁和底壁上设置的磁控靶分别为铬材料磁控靶(31)和石墨材料磁控靶(32);位于所述放卷室(1)和收卷室(4)之间大致中间位置的过渡室(2)内还设有基膜行进纠偏装置(200),该纠偏装置(200)包括纠偏辊(201)和纠偏辊座;所述纠偏辊(201)为倾角可调式纠偏辊,其包括一个固定端(202)和一个升降端(203),固定端轴(211)通过角接触球轴承(204)固定在纠偏辊座,升降端(203)设有升降滑套(205),在升降端(203)的纠偏辊座上设有与升降滑套(205)相配合的升降导轨,所述升降滑套(205)为槽轮形滑套,槽轮形滑套通过调心轴承固定在纠偏辊轴(206)上,所述升降导轨为垂直于纠偏辊座上水平面的两定位板(207),两定位板(207)之间构成升降滑套滑道;在升降端(203)的纠偏辊座上还设有纠偏辊升降机构,该纠偏辊升降机构包括升降连杆(208),升降连杆(208)一端通过轴承与纠偏辊轴(206)连接,另一端通过轴承与升降驱动轴(209)端的偏心轴(210)连接,升降驱动轴(209)接纠偏驱动电机。
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