基板处理装置

摘要

在基板处理装置(1)中，在腔室(12)的外周形成侧方空间(160)的杯部(161)与从腔室主体(121)分离的腔室盖部(122)接触，从而形成扩大密闭空间(100)。扫描喷嘴(188)在侧方空间(160)安装在杯部(161)上，经由环状开口(81)向基板的上方移动，并向基板上供给药液。在进行基板的清洗处理以及干燥处理时，将扫描喷嘴(188)容纳于侧方空间(160)，通过腔室盖部(122)堵塞腔室主体(121)的上部开口，从而腔室空间(120)与侧方空间(160)隔绝而被密闭。由此，能够使腔室空间(120)与扫描喷嘴(188)隔离。其结果，能够防止来自扫描喷嘴(188)的药液的雾滴等附着在基板上。

主权项

一种基板处理装置(1、1a～1c)，对基板进行处理，其特征在于，具有：腔室(12)，具有形成腔室空间(120)的腔室主体(121)以及腔室盖部(122)，通过所述腔室盖部堵塞所述腔室主体的上部开口，来对所述腔室空间进行密闭，腔室开闭机构(131)，使所述腔室盖部相对于所述腔室主体在上下方向上移动，基板保持部(14)，配置在所述腔室空间内，将基板(9)保持为水平状态，基板旋转机构(15)，以朝向上下方向的中心轴(J1)为中心，使所述基板与所述基板保持部一起进行旋转，杯部(161)，在整周位于所述腔室的外侧，并在所述腔室的外周形成侧方空间(160)，能够接收从旋转的所述基板经由使所述腔室盖部从所述腔室主体分离而在所述基板的周围形成的环状开口(81)飞散的处理液，处理液供给部(188、188a、188b)，在所述侧方空间内安装在所述腔室或所述杯部上，经由所述环状开口移动到所述基板的上方并向所述基板上供给处理液，或者经由所述环状开口向所述基板上供给处理液；在形成有所述环状开口的状态下，使所述杯部与所述腔室盖部接触，从而所述腔室空间以及所述侧方空间成为1个扩大密闭空间(100)。