发明名称 激光能量计校准用大功率卤钨灯残余能量辐射效率测量系统及测量方法
摘要 本发明提供了一种激光能量计校准用大功率卤钨灯残余能量辐射效率测量系统及测量方法,所述的测量系统含有校准用大功率卤钨灯、卤钨灯固定支架、温控箱、宽光谱型功率计、电能计、时间继电器、交流接触器。所述的测量方法包括以下步骤:(a)、测量实际校准时的环境温度;(b)、完成测量系统的布局;(c)、将温控箱的温度调整为校准时的环境温度;(d)、测量卤钨灯断电后的功率和卤钨灯上消耗的电能<i>E</i>;(e)、利用几何关系及功率能量关系计算出某时刻的辐射效率;(f)、计算不同时刻大功率卤钨灯残余能量辐射效率变化曲线;(g)、设定不同的通电时间,重复步骤(c)~(f)。本发明测量精确高,为激光能量计的精确校准奠定了基础。
申请公布号 CN104006878B 申请公布日期 2015.12.02
申请号 CN201410263492.3 申请日期 2014.06.16
申请人 中国工程物理研究院应用电子学研究所;中国工程物理研究院计量测试中心 发明人 张卫;范国滨;魏继锋;常艳;周文超;周山;徐德;彭勇;田英华;黄德权;沙子杰;蒋志雄;胡晓阳;冉铮惠
分类号 G01J1/00(2006.01)I 主分类号 G01J1/00(2006.01)I
代理机构 中国工程物理研究院专利中心 51210 代理人 韩志英
主权项 一种激光能量计校准用大功率卤钨灯残余能量辐射效率测量系统,其特征在于,所述的测量系统含有校准用大功率卤钨灯(3)、卤钨灯固定支架(2)、温控箱(1)、宽光谱型功率计(9)、计算机(11)、电能计(4)、时间继电器(6)、交流接触器(5)、稳压器(7)、功率计信号线(10)、导线(8);其连接关系为,所述的卤钨灯固定支架(2)设置在温控箱(1)内部底板上,校准用大功率卤钨灯(3)两端通过螺钉固定在卤钨灯固定支架(2)上,温控箱(1)上设置有一个圆孔,圆孔的直径大于校准用大功率卤钨灯(3)的长度;所述的宽光谱型功率计(9)设置在校准用大功率卤钨灯(3)中心的垂线上,宽光谱型功率计(9)与校准用大功率卤钨灯(3)的距离设置为<i>L</i>,并且宽光谱型功率计(9)的光敏面中心、大功率卤钨灯(3)中心、温控箱(1)上的圆孔中心在同一条直线上;所述的校准用大功率卤钨灯(3)通过导线(8)依次与电能计(4)、交流接触器(5)、稳压器(7)电连接;所述的交流接触器(5)的主接点通过导线(8)分别与电能计(4)、稳压器(7)电连接,交流接触器(5)的辅助接点与时间继电器(6)电连接,宽光谱型功率计(9)所测得的功率数据通过功率计信号线(10)与计算机(11)相连接;所述的宽光谱型功率计(9)与校准用大功率卤钨灯(3)中心之间的距离L大于校准用大功率卤钨灯(3)尺寸的10倍。
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