发明名称 一种八层堆叠式芯片封装结构及其制造工艺
摘要 本发明公开了一种八层堆叠式芯片封装结构及其制造工艺,其特征在于,包括:一基板,具有相对的一顶面和一底面;八个芯片,堆叠配置于所述基板的顶面上,其中二个芯片为一组,四组芯片呈交叉梯子形堆叠;多根导线,电性连接于芯片和芯片之间和芯片和基板之间;封装结构的封装空间内填充的绝缘树脂。本发明所述制造工艺采用超精细研磨技术,金线键合分段式技术,以及封装合模技术攻克了多层封装机构制造的难题,通过本发明所述制造工艺制造的封装结构性能稳定,良品率高、层数较高、芯片容量大。
申请公布号 CN103346150B 申请公布日期 2015.12.02
申请号 CN201310260733.4 申请日期 2013.06.26
申请人 力成科技(苏州)有限公司 发明人 胡立栋;金若虚;陆春荣;刘鹏;张振燕
分类号 H01L25/04(2014.01)I;H01L23/498(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L25/04(2014.01)I
代理机构 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人 刘宪池
主权项 一种八层堆叠式芯片封装结构的制造工艺,其特征在于,包括如下步骤:步骤1芯片研磨与切割:使用细金刚石颗粒的研磨轮,并配合研磨轮在主轴转数为1400RPM和芯片进给速度为0.2mm/s的情况下,调低传送设备各部件的真空和吹气压力,研磨第二芯片、第三芯片、第四芯片、第六芯片、第七芯片和第八芯片的厚度为55μm;研磨第一芯片和第五芯片的厚度为75μm;并将整个晶圆切割成单个的独立的小芯片;步骤2贴片:使用10μm厚的胶带把芯片与芯片、芯片和基板粘贴在一起,工艺参数为吸着力道大于70Kpa,焊接力为10N,每两层芯片进行一次温度为145~155℃、时间为30~60分钟的烘烤,以保证芯片与胶带之间的粘合力;步骤3金线键合:通过金线键合的方式来连接芯片与芯片,芯片与基板的之间电路;工艺参数为采用两段的焊线压力输出:较小的初始压力为10‑15g,以防止焊针接触芯片表面时晃动而破坏芯片,待芯片晃动趋于稳定后,再施加稍大的压力为20~30g,以帮助焊接金线的结合性;步骤4塑封:将芯片,金线,胶带,基板的上面用树脂包封在塑封体内,在塑封合膜时,需要抽真空,合膜压力为35~50t;合膜后,进行160~180℃、5小时的高温烘烤,可以强化树脂的结合引导气体顺利排出整个腔体;步骤5植球:植入锡球在基板的底部,以便元件可以顺利的焊接到PCB线路板上;步骤6切割:每一条基板根据不同产品的尺寸,包含了几十粒大到几百粒个芯片,通过切割工序,形成若干个独立元器件,以便客户端使用。
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