发明名称 曝光装置、曝光装置的制造方法以及元件的制造方法
摘要
申请公布号 TWI510869 申请公布日期 2015.12.01
申请号 TW102122403 申请日期 2006.03.28
申请人 尼康股份有限公司 发明人 川村秀司
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种曝光装置,把光罩上所形成的图案、透过投影光学系统而曝光至感光性基板,其特征在于包括:基板载台,支撑所述感光性基板,且所述基板载台相对于所述投影光学系统能够移动;导引部,导引所述基板载台的移动;第1及第2下架台部,在第1方向设置间隔而配置;第1及第2中架台部,在与所述第1方向交叉的第2方向设置间隔而配置,所述第1及第2中架台部是载置于所述第1及第2下架台部上;以及上架台部,载置于所述第1及第2中架台部上,所述第1及第2下架台部支撑了:所述导引部、与搭载于所述导引部上的所述基板载台,且所述第1及第2中架台部是:以所述第1及第2中架台部的长方向与所述第1及第2下架台部的长方向为相互交叉的方式,而载置于所述第1及第2下架台部上。
地址 日本