发明名称 微影系统中闪光效应之修正
摘要
申请公布号 TWI510867 申请公布日期 2015.12.01
申请号 TW100131572 申请日期 2011.09.01
申请人 ASML荷兰公司 发明人 刘 华 玉;陈洛祁;李真伟;刘伟;江泂
分类号 G03F7/20;H01L21/027;G03F1/70 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林嘉兴 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种以一电脑实施用于减少由一微影系统产生之一闪光效应之方法,该微影系统用于将一设计布局成像至一基板上,该方法包含:调整一点散布函数(PSF)以解释由该微影系统之经识别特性所造成之系统特定闪光效应(system-specific effects on flare);利用该电脑藉由数学地组合该微影系统之一曝光场处该设计布局之一密度图与该经调整之点散布函数(PSF)来模拟该曝光场中之一闪光图,使得该闪光图之系统特定效应被并入于该模拟中;及藉由使用该经判定闪光图来演算该设计布局之部位相依闪光修正,藉此减少该闪光效应。
地址 荷兰