发明名称 由硬化多孔介电质移除回填的孔洞填充剂之方法;METHOD FOR REMOVING BACK-FILLED PORE-FILLING AGENT FROM A CURED POROUS DIELECTRIC
摘要 揭露一种多孔介电质的制备方法。尤其,此方法包含自硬化多孔介电层中的孔洞移除孔洞填充剂,其中孔洞填充剂系在硬化制程期间移除孔洞形成剂后回填至孔洞内。移除孔洞填充剂包含将其上支撑基板的基板支撑件加热至高于100度C但低于400度C的支撑件温度并在加热基板支撑件的同时将基板暴露至电磁(EM) 辐射,其中EM辐射包含波长落在紫外线(UV)频谱、可见光频谱、红外线(IR)频谱、或微波频谱、或其组合内的光发射。
申请公布号 TW201545175 申请公布日期 2015.12.01
申请号 TW104106941 申请日期 2015.03.05
申请人 东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 刘俊军 LIU, JUNJUN
分类号 H01B3/00(2006.01);H01L21/762(2006.01) 主分类号 H01B3/00(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋周良吉
主权项
地址 日本 JP