发明名称 |
由硬化多孔介电质移除回填的孔洞填充剂之方法;METHOD FOR REMOVING BACK-FILLED PORE-FILLING AGENT FROM A CURED POROUS DIELECTRIC |
摘要 |
揭露一种多孔介电质的制备方法。尤其,此方法包含自硬化多孔介电层中的孔洞移除孔洞填充剂,其中孔洞填充剂系在硬化制程期间移除孔洞形成剂后回填至孔洞内。移除孔洞填充剂包含将其上支撑基板的基板支撑件加热至高于100度C但低于400度C的支撑件温度并在加热基板支撑件的同时将基板暴露至电磁(EM) 辐射,其中EM辐射包含波长落在紫外线(UV)频谱、可见光频谱、红外线(IR)频谱、或微波频谱、或其组合内的光发射。 |
申请公布号 |
TW201545175 |
申请公布日期 |
2015.12.01 |
申请号 |
TW104106941 |
申请日期 |
2015.03.05 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
刘俊军 LIU, JUNJUN |
分类号 |
H01B3/00(2006.01);H01L21/762(2006.01) |
主分类号 |
H01B3/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
周良谋周良吉 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |