发明名称 | 抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI510332 | 申请公布日期 | 2015.12.01 |
申请号 | TW102131608 | 申请日期 | 2013.09.03 |
申请人 | 宁波江丰电子材料有限公司 | 发明人 | 姚力军;大岩一彦;相原俊夫;潘杰;王学泽 |
分类号 | B24B53/12 | 主分类号 | B24B53/12 |
代理机构 | 代理人 | 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼 | |
主权项 | 一种抛光垫修整器,其特征在于,包括:研磨颗粒;基体,具有研磨面,所述研磨颗粒固结在所述研磨面上,所述研磨面呈环状分布在所述基体上,所述研磨面包括:相连的边缘研磨面和中央研磨面,所述边缘研磨面包括内边缘研磨面及外边缘研磨面,所述中央研磨面位于内边缘研磨面和外边缘研磨面之间;所述中央研磨面为平面,且所述中央研磨面高于边缘研磨面;所述边缘研磨面为圆弧面,所述边缘研磨面与中央研磨面相切;或者所述边缘研磨面由至少一个圆弧面和至少一个不与所述中央研磨面平行的平面相连而成,所述边缘研磨面与中央研磨面相连的面为与中央研磨面相切的圆弧面;所述中央研磨面的宽度为1毫米至30毫米,所述与中央研磨面相切的圆弧面的半径为15毫米至25毫米;所述基体还具有非研磨面,所述非研磨面在所述中央研磨面所在平面上的投影,被所述研磨面在所述中央研磨面所在平面上的投影包围;所述非研磨面低于所述研磨面。 | ||
地址 | 中国 |