发明名称 POLISHING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POLISHING COMPOSITION, AND KIT FOR PREPARING POLISHING COMPOSITION
摘要 SP값이 서로 다른 복수 종의 반복 단위를 포함하는 분자 구조를 갖는 수용성 중합체를 함유하는 연마용 조성물이나, 소정의 방법에 의해 구해지는 에칭레이트 및 지립 흡착율이 각각 소정의 범위에 있는 연마용 조성물이 제공된다. 또한, 지립, 염기성 화합물, 염기성 조건하에서 가수분해 반응성을 나타내는 관능기를 갖는 수용성 중합체 H 및 물을 사용하여 연마용 조성물을 제조하는 방법이며, 적어도 상기 염기성 화합물을 포함하는 A제를 준비하는 공정과, 적어도 상기 수용성 중합체 H를 포함하는 B제를 준비하는 공정을 포함하는 연마용 조성물 제조 방법이 제공된다.
申请公布号 KR20150133694(A) 申请公布日期 2015.11.30
申请号 KR20157020585 申请日期 2014.03.14
申请人 FUJIMI INCORPORATED 发明人 TSUCHIYA KOHSUKE;TANSHO HISANORI;ICHITSUBO TAIKI
分类号 C09K3/14;C09G1/02;H01L21/02 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
主权项
地址