发明名称 通过UV-辅助的化学气相沉积在聚合物基底上沉积掺杂的ZnO薄膜
摘要 本发明提供了在一个聚合物基底上形成一个层的一种方法,该方法包括具有使至少一种前体与一个聚合物基底接触,并且使用紫外光分解该至少一种前体并且在该聚合物基底上沉积一个层。还提供了沉积在一个聚合物基底上的包含氧化锌的一个掺杂层,这是通过将包含锌和一种掺杂剂的至少一种前体引入到一个容器内来接触一种聚合物基底,并且使用紫外光分解该至少一种前体以及在该聚合物基底上沉积包含掺杂氧化锌的一个层。
申请公布号 CN102640254B 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201080053908.9 申请日期 2010.10.14
申请人 阿科玛股份有限公司 发明人 徐琛;G·S·西尔弗曼;R·Y·科罗特科夫;R·G·史密斯
分类号 H01L21/00(2006.01)I;C03C17/34(2006.01)I;G02B1/11(2015.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 顾敏
主权项 一种用于在聚合物基底上形成一个掺杂氧化锌的层的方法,该方法包括:(a)在大气压下用至少一种前体接触一个聚合物基底,所述至少一种前体包含掺杂剂和锌,所述掺杂剂是选自由Al、Ga、In、Tl和B组成的组的至少一种金属;并且(b)在160℃‑200℃的温度使用紫外光来分解该至少一种前体并且在该聚合物基底上沉积一个层,其中所述聚合物基底选自下组:氟聚合物树脂类,聚酯类,聚丙烯酸酯类,聚酰胺类,聚酰亚胺类,聚碳酸酯类、聚醚酮酮和聚甲基丙烯酸甲酯。
地址 美国宾夕法尼亚州