发明名称 具备非接触式旋转装置的基板洗净装置
摘要 本发明涉及一种具备非接触式旋转装置的基板洗净装置,作为基板洗净装置,其特征在于包括:下部滚筒(10),其以下部滚筒轴(11)为中心旋转;上部滚筒(20),其与所述下部滚筒(10)平行地配备于所述下部滚筒(10)上部;下部粘着滚筒(30),其平行地配备于所述下部滚筒(10)的下部;上部粘着滚筒(40),其平行地配备于所述上部滚筒(20)的下部;导辊部(50),其以翻滚轴(51)为中心旋转,在行进的基板的下部进行引导,使基板通过所述上部滚筒(20)与下部滚筒(10)之间;驱动部(60),其支撑、固定于框架(1),使所述导辊部(50)、下部滚筒(10)及上部滚筒(20)中的至少一者旋转;驱动部(60),其支撑、固定于框架(1),使所述导辊部(50)、下部滚筒(10)及上部滚筒(20)中的至少一者旋转。
申请公布号 CN103348451B 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201180047424.8 申请日期 2011.06.29
申请人 考姆爱斯株式会社 发明人 黄善伍
分类号 H01L21/302(2006.01)I 主分类号 H01L21/302(2006.01)I
代理机构 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人 汤东凤
主权项 一种具备非接触式旋转装置的基板洗净装置,作为基板洗净装置,其特征在于包括:下部滚筒(10),其以下部滚筒轴(11)为中心旋转;上部滚筒(20),其与所述下部滚筒(10)平行地配备于所述下部滚筒(10)上部;下部粘着滚筒(30),其平行地配备于所述下部滚筒(10)的下部;上部粘着滚筒(40),其平行地配备于所述上部滚筒(20)的下部;导辊部(50),其以翻滚轴(51)为中心旋转,在行进的基板的下部进行引导,使基板通过所述上部滚筒(20)与下部滚筒(10)之间;驱动部(60),其支撑、固定于框架(1),使所述导辊部(50)、下部滚筒(10)及上部滚筒(20)中的至少一者旋转;所述驱动部(60)使所述导辊部(50)以非接触式旋转;所述驱动部(60)使所述下部滚筒(10)以非接触式旋转;所述导辊部(50)与所述下部滚筒(10)的两端能转动地支撑、固定于第1滑动支撑体所述第1滑动支撑体(B1)构成得能沿固定于框架(1)的导轨(R)插入、拔出。
地址 韩国忠清北道清州市上党区井上洞165-2,360-226