| 发明名称 | 钨烧结体溅射靶及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种钨烧结体溅射靶，其特征在于，杂质铁为0.8重量ppm以下且余量为钨和其它不可避免的杂质，靶组织中的铁的浓度范围为平均含有浓度的±0.1重量ppm的范围内。上述钨烧结体溅射靶，其特征还在于，靶的相对密度为99％以上，平均晶粒尺寸为50μm以下，晶粒尺寸的范围为5～200μm。本发明的课题在于通过减少钨烧结体溅射靶中的铁，由此抑制该钨靶中的异常晶粒生长。 | ||
| 申请公布号 | CN105102670A | 申请公布日期 | 2015.11.25 |
| 申请号 | CN201480004638.0 | 申请日期 | 2014.03.20 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 大桥一允;冈部岳夫 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C22C27/04(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/285(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种钨烧结体溅射靶，其特征在于，杂质铁为0.8重量ppm以下且余量为钨和其它不可避免的杂质，靶组织中的铁的浓度范围为平均含有浓度的±0.1重量ppm的范围内。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||