发明名称 |
非易失性存储器及其形成方法 |
摘要 |
一种非易失性存储器及其形成方法,所述方法包括:提供具有凹槽的衬底;在所述凹槽内形成多条平行排列的电荷捕获条,多条电荷捕获条至少分为一层,电荷捕获条的两端与凹槽的侧壁接触,最底层的电荷捕获条与所述凹槽的底部之间具有空隙;将每条电荷捕获条刻蚀成多个电荷捕获颗粒且在凹槽内填充介电层,且介电层覆盖顶层的电荷捕获颗粒,其中,将位于同一层的电荷捕获颗粒称为电荷捕获颗粒层;在介电层上形成导电层;图形化所述导电层、介电层和电荷捕获颗粒层,形成呈阵列排列的存储结构,图形化后的导电层作为存储结构的控制栅极,每一存储结构中的每层电荷捕获颗粒层具有多个电荷捕获颗粒。采用本发明的方法能够提高非易失性存储器的性能。 |
申请公布号 |
CN103545260B |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
申请号 |
CN201210238268.X |
申请日期 |
2012.07.10 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
禹国宾 |
分类号 |
H01L21/8247(2006.01)I;H01L27/115(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/8247(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种非易失性存储器的形成方法,其特征在于,包括:提供具有凹槽的衬底;在所述凹槽内形成多条平行排列的电荷捕获条,多条电荷捕获条至少分为一层,所述电荷捕获条的两端与凹槽的侧壁接触,最底层的电荷捕获条与所述凹槽的底部之间具有空隙;将每条电荷捕获条刻蚀成多个电荷捕获颗粒且在凹槽内填充介电层,且所述介电层覆盖顶层的电荷捕获颗粒,其中,将位于同一层的电荷捕获颗粒称为电荷捕获颗粒层;在所述介电层上形成导电层;图形化所述导电层、介电层和电荷捕获颗粒层,形成呈阵列排列的存储结构,图形化后的导电层作为存储结构的控制栅极,每一存储结构中的每层电荷捕获颗粒层具有多个电荷捕获颗粒。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |