发明名称 一种X光高温高压催化反应炉
摘要 本发明提出了一种X光高温高压催化反应炉,包括:气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道,气体进口通道通过连通孔与炉腔导通,炉腔内侧设置有屏蔽层,外壁上设置有窗口和铍窗法兰,窗口和铍窗法兰之间设置有保护层,保护层包括位于外侧的镀铝铍片层和位于内侧的高分子薄膜层,屏蔽层包括与保护层对应设置的铍片。铍窗法兰、镀铝铍片层、高分子薄膜层、胶圈、炉腔及炉上盖由螺栓连接形成一密封腔体,由于高分子薄膜层设置在镀铝铍片内侧,可将催化气体与镀铝铍片隔离,因此高分子薄膜层可以保护镀铝铍片不被催化气体及催化物污染,镀铝铍片材料性能优异可以承受1MPa的反应压力并且低能X光可以顺利通过照射到催化物。
申请公布号 CN103599732B 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201310532742.4 申请日期 2013.10.30
申请人 沈阳迈维科技有限公司 发明人 张晓哲;孙凡飞;姜政
分类号 B01J3/04(2006.01)I;B01J19/12(2006.01)I;B01J19/02(2006.01)I 主分类号 B01J3/04(2006.01)I
代理机构 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 代理人 郑自群
主权项 一种X光高温高压催化反应炉,其特征在于,包括:气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道,所述气体进口通道通过连通孔与所述炉腔导通,所述炉腔内侧设置有屏蔽层,外壁上设置有窗口和铍窗法兰,所述窗口和所述铍窗法兰之间设置有保护层,所述保护层包括位于外侧的镀铝铍片层和位于内侧的高分子薄膜层,所述屏蔽层包括与保护层对应设置的铍片。
地址 110168 辽宁省沈阳市浑南新区长青南街18-12号2栋4门