发明名称 等离子体处理腔室及其直流电极和加热装置的复合组件
摘要 本发明提供了一种等离子体处理腔室及其直流电极和加热装置的复合组件,其中,所述等离子体处理腔室下部包括一基台,基台下方设置有若干冷却液通道,在所述冷却液通道上方设置有一隔热层,其特征在于,在所述隔热层上方设置有绝缘层,在所述绝缘层上方设置有电热合金制成的复合组件,同时充当直流电极和加热装置。本发明提供的等离子体处理腔室及其直流电极和加热装置的复合组件能够同时充当直流电极和加热装置,并且同时发挥两者的作用而不相互串扰,简化了机构,节约了能源。
申请公布号 CN105097402A 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201410221766.2 申请日期 2014.05.23
申请人 中微半导体设备(上海)有限公司 发明人 张力;梁洁;左涛涛;贺小明;倪图强
分类号 H01J37/32(2006.01)I 主分类号 H01J37/32(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 王洁
主权项 一种用于等离子体处理腔室下电极的直流电极和加热装置的复合组件,其中,所述等离子体处理腔室下部包括一基台,基台下方设置有若干冷却液通道,在所述冷却液通道上方设置有一隔热层,其特征在于,在所述隔热层上方设置有绝缘层,在所述绝缘层上方设置有电热合金制成的复合组件,同时充当直流电极和加热装置。
地址 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号