| 摘要 |
본 발명은 진공 용기와, 진공 용기 내에 플라즈마 CVD 전극 유닛과 기재 유지 기구를 구비하고, 이 플라즈마 CVD 전극 유닛이 애노드와, 이 애노드와 간격을 두고 대항하는 캐소드와, 이 애노드와 캐소드 사이의 플라즈마 생성 공간을 통과하도록 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 노즐을 구비하고, 기재 유지 기구가 플라즈마 생성 공간을 통과한 가스가 닿는 위치에 배치되어 있으며, 애노드의 가스 공급 방향의 길이 및 캐소드의 가스 공급 방향의 길이가 모두 애노드와 캐소드간의 거리보다 긴 플라즈마 장치이다. 본 발명에 의해, 가스의 분해 효율을 높여 높은 성막 속도의 실현을 가능하게 하는 플라즈마 CVD 장치가 제공된다. |
