| 摘要 |
진공 프로세싱을 위한 기판 프로세싱 챔버에서 기판(101)을 지지하기 위한 캐리어가 설명된다. 캐리어는 기판 고정 조립체를 포함하고, 기판 고정 조립체는 하나 또는 그 초과의 고정 유닛들(120)을 포함하며, 각각의 고정 유닛은: 기판의 엣지와 접촉하도록 그리고 접촉 포지션을 정의하도록 구성된 엣지 접촉 표면(121); 기판의 제 1 기판 표면(102)과 접촉하도록 구성된 제 1 표면(124)을 갖는 제 1 고정 엘리먼트(122) ― 제 1 고정 엘리먼트는, 제 1 기판 표면에 대해 실질적으로 평행하게, 접촉 포지션으로부터 제 1 길이(L1)만큼 연장됨 ―; 기판의 제 2 기판 표면(103)과 접촉하도록 구성된 제 2 표면(125)을 갖는 제 2 고정 엘리먼트(123) ― 제 2 기판 표면은 기판의 제 1 기판 표면에 대향하고(oppose), 제 2 고정 엘리먼트는, 제 2 기판 표면에 대해 실질적으로 평행하게, 접촉 포지션으로부터 제 2 길이(L2)만큼 연장됨 ―; 제 1 고정 엘리먼트 및 제 2 고정 엘리먼트 중 적어도 하나를 이용하여, 기판에 대한 고정력(fixation force)(140)을 제공하기 위한 힘 엘리먼트(force element)(130)를 포함하고, 제 1 길이 및 제 2 길이 중 더 짧은 길이는 고정력과 조합하여 모멘트(140)를 제공하며, 하나 또는 그 초과의 고정 유닛들은 기판 엣지 길이 단위당 10Nmm 또는 그 초과가 되는 모멘트를 제공한다. |
