| 主权项 |
一种基板处理系统，其包括：一涂布单元，其用于对基板执行一涂布制程；一曝光前后处理单元，其连接至一曝光单元，以用于对已在该涂布单元中处理之基板执行一曝光制程及执行一曝光前/曝光后处理制程；及一显像单元，其用于对已在该曝光前后处理单元中处理之基板执行一显像制程，其中，该涂布单元、该曝光前后处理单元及该显像单元之每一者包括：一装载口，于其上设置一收纳基板之容器；一分度模组，其用于自该容器取出该基板或将该基板运送至该容器；及一处理模组，其用于在该基板上执行一预定制程，其中，该装载口、该分度模组及该处理模组按顺序配置；及该曝光前后处理单元更包括：一连接至该曝光单元之介面模组，其中，该介面模组设置于该处理模组之一侧，且该分度模组设置于该处理模组之另一侧；及一缓冲模组，该缓冲模组设置于该分度模组与该处理模组之间，其中，该装载口、该分度模组、该处理模组及该介面模组按顺序配置在一第一方向上，该装载口在一第二方向上延伸之直线上提供及配置复数个装载台，及该缓冲模组包含一框架、一第一缓冲区、一第二缓冲区、一冷却室及一缓冲区机器人，且该第二缓冲区、该冷却室及该第一缓冲区沿一第三方向向上顺序配置。
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