发明名称 | 于基底中形成图案的方法 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI509368 | 申请公布日期 | 2015.11.21 |
申请号 | TW101130113 | 申请日期 | 2012.08.20 |
申请人 | 华邦电子股份有限公司 | 发明人 | 蒋汝平 |
分类号 | G03F7/20;G03F7/26 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 | |
主权项 | 一种于基底中形成图案的方法,包括:提供具有图案区域的基底;在所述图案区域中,于所述基底上形成多个条状罩幕层,在所述条状罩幕层中,至少二个相邻的所述条状罩幕层分别具有突出部,且所述突出部面向彼此;于所述条状罩幕层的侧壁上形成间隙壁,其中所述间隙壁的厚度大于二个所述突出部之间的距离的一半;移除所述条状罩幕层;以所述间隙壁为罩幕,进行蚀刻制程,以于所述基底中形成沟渠;以及于沟渠中填入材料,在形成所述间隙壁之后以及移除所述条状罩幕层之前,更包括在所述图案区域外形成块状罩幕层,其中所述块状罩幕层覆盖部分所述间隙壁。 | ||
地址 | 台中市大雅区科雅一路8号 |