发明名称 于基底中形成图案的方法
摘要
申请公布号 TWI509368 申请公布日期 2015.11.21
申请号 TW101130113 申请日期 2012.08.20
申请人 华邦电子股份有限公司 发明人 蒋汝平
分类号 G03F7/20;G03F7/26 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种于基底中形成图案的方法,包括:提供具有图案区域的基底;在所述图案区域中,于所述基底上形成多个条状罩幕层,在所述条状罩幕层中,至少二个相邻的所述条状罩幕层分别具有突出部,且所述突出部面向彼此;于所述条状罩幕层的侧壁上形成间隙壁,其中所述间隙壁的厚度大于二个所述突出部之间的距离的一半;移除所述条状罩幕层;以所述间隙壁为罩幕,进行蚀刻制程,以于所述基底中形成沟渠;以及于沟渠中填入材料,在形成所述间隙壁之后以及移除所述条状罩幕层之前,更包括在所述图案区域外形成块状罩幕层,其中所述块状罩幕层覆盖部分所述间隙壁。
地址 台中市大雅区科雅一路8号