发明名称 形成用于电容式触摸传感器的电极结构的方法
摘要 一种使用脉冲式固体激光器通过激光直写刻划工艺在透明导电层中形成用于电容式触摸传感器的电极结构的方法,其中,透明导电层位于透明非导电层上,透明非导电层位于彩色滤光片层上,基板处的激光波长、脉冲长度和光束剖面选择如下:在257nm到266nm范围内的波长,在50fs到50ns范围内的脉冲长度,以及最大值(Emax)与最小值(Emin)之间的功率密度或者能量密度的均匀性小于10%的平顶光束剖面,其中均匀性定义为(Emax–Emin)/(Emax+Emin)。因此,可以在透明导电层中形成凹槽,以使每个凹槽的相对两侧上的透明导电层的区域电隔离,同时基本上不损害透明导电层之下的透明非导电层或者彩色滤光片层。
申请公布号 CN105073332A 申请公布日期 2015.11.18
申请号 CN201480009362.5 申请日期 2014.02.14
申请人 万佳雷射有限公司 发明人 卡米洛·普列托锐奥;陈旭钧
分类号 B23K26/36(2006.01)I;B23K26/40(2006.01)I;B23K26/06(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I 主分类号 B23K26/36(2006.01)I
代理机构 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人 孟桂超;张颖玲
主权项 一种使用脉冲式固体激光器通过激光直写刻划工艺在透明导电层中形成用于电容式触摸传感器的电极结构的方法,其中,所述透明导电层位于透明非导电层上,所述透明非导电层位于彩色滤光片层上,基板处的激光波长、脉冲长度和光束剖面选择如下:i)在257nm到266nm范围内的波长ii)在50fs到50ns范围内的脉冲长度iii)最大值(Emax)与最小值(Emin)之间的功率密度或者能量密度的均匀性小于10%的平顶光束剖面,其中均匀性定义为(Emax–Emin)/(Emax+Emin),使得在所述透明导电层中形成凹槽,以使每个凹槽的相对两侧上的所述透明导电层的区域电隔离,同时基本上不损害所述透明导电层之下的所述透明非导电层或者所述彩色滤光片层。
地址 英国牛津