发明名称 光学临近修正中的二维图形快速识别方法
摘要 一种光学临近修正中的二维图形快速识别方法,包括:在图形边沿放置一系列法线方向采样点,并利用快速卷积算法获得法线方向采样点光学强度;采用法线方向采样点光学强度对法线方向采样点做三次样条拟合,根据光学模型中光强反应临近值估计光学边界,随后在图形的光学边界处计算一阶差分以估算图形边沿处的斜率;在图形边沿放置一系列切线方向采样点,并利用快速卷积算法,以获得采样的切线采样点光强;计算每个切线采样点光强和参考点光强的差值,并且利用所述差值并根据斜率来估算切线漂移;利用所述光学边界估算步骤中估计出的光学边界、以及切向边界漂移,执行二维弯曲估算。
申请公布号 CN105068374A 申请公布日期 2015.11.18
申请号 CN201510490476.2 申请日期 2015.08.11
申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 发明人 金晓亮;钟政;袁春雨
分类号 G03F1/36(2012.01)I 主分类号 G03F1/36(2012.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅
主权项 一种光学临近修正中的二维图形快速识别方法,其特征在于包括:光学强度法线采样步骤:在晶圆的图形边沿放置一系列法线方向采样点,并利用快速卷积算法,以获得法线方向采样点光学强度;光学边界估算步骤:采用法线方向采样点光学强度对法线方向采样点做三次样条拟合,而且根据光学模型中光强反应临近值估计光学边界,随后在图形的光学边界处计算一阶差分,以估算图形边沿处的斜率;光学强度切线采样步骤:在图形边沿放置一系列切线方向采样点,并利用快速卷积算法,以获得采样的切线采样点光强;切线边界漂移估算步骤:计算每个切线采样点光强和参考点光强的差值,并且利用所述差值并根据所述光学边界估算步骤中估算出的斜率来估算切线漂移;二维弯曲估算步骤:利用所述光学边界估算步骤中估计出的光学边界、以及所述切线边界漂移估算步骤中估算出的切向边界漂移,执行二维弯曲估算。
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