梯形像素Bank结构和OLED器件的制备方法

摘要

本发明适用于印刷显示技术领域，分别提供了梯形像素Bank结构和OLED器件的制备方法。所述梯形像素Bank结构的制备方法包括：提供一TFT背板，在所述TFT背板的电极上制备Bank层，对所述Bank层依次进行两次曝光、显影和刻蚀处理，形成倒梯形像素区域，得到具有梯形Bank的梯形像素Bank结构。本发明提供的梯形像素Bank结构的制备方法，能有效补偿显影液、刻蚀液对像素Bank的横向侵蚀作用，克服了因Bank底部的过刻蚀对器件像素均匀性造成的影响；同时，采用先聚光再扫描式曝光的方式对正性Bank材料进行曝光处理，可以提高显示器件的像素精度，进而提高印刷显示器件的分辨率。

主权项

一种梯形像素Bank结构的制备方法，包括以下步骤：提供一TFT背板，在所述TFT背板的电极上涂覆一层Bank材料，对所述Bank材料进行烘烤处理，以形成与所述电极具有粘性的Bank层，其中，所述Bank材料为正性Bank材料；将图形化的掩膜板平行置于所述Bank层的上方，在所述掩膜板的上方设置光源，在所述光源与所述掩膜板之间、所述掩膜板与所述Bank层之间，分别设置与所述Bank层平行的第一光学棱镜和第二光学棱镜，所述光源发出的光线经聚光装置进行聚光处理后，透过所述第一光学棱镜照射所述掩膜板，经所述第二光学棱镜对所述Bank层进行两次曝光处理后，依次进行显影和刻蚀，形成倒梯形像素区域，得到具有梯形Bank的梯形像素Bank结构，其中，所述倒梯形像素区域中，倒梯形的顶边和底边分别以d、l表示，d＞l，所述Bank层的高度以h表示，所述底边与倒梯形的侧边形成的夹角以α表示，所述两次曝光处理的方法为：第一次曝光处理：调节所述光学棱镜使得透过所述光学棱镜的光源与所述Bank层之间形成(90°‑α)的夹角，同步移动所述掩膜板和所述Bank层、或同步移动所述光源、聚光装置、第一光学棱镜和第二光学棱镜，使所述光线扫描式照射所述掩膜板，进行第一次曝光；第二次曝光处理：与第一次曝光处理反方向调整所述光学棱镜(180°‑2α)，使得透过所述光学棱镜的光源与所述Bank层之间形成(90°‑α)的夹角，同步移动所述掩膜板和所述Bank层、或同步移动所述光源、聚光装置、第一光学棱镜和第二光学棱镜，使所述光线扫描式照射所述掩膜板，进行第二次曝光；所述d、l、α之间满足ctgα＜d/2h。