浮雕幻影釉面砖的釉及制备

摘要

本发明公开一种浮雕幻影釉面砖的釉及制备，包括有由熔块b、硅酸锆、高岭土、煅烧高岭土、钾长石粉、烧滑石、氧化铝粉、石英粉、羧甲基纤维素、三聚磷酸钠、水配制成的底釉；由熔块、熔块b、熔块c、高岭土、羧甲基纤维素、三聚磷酸钠、水配制成的面釉；以及由基础釉粉、氧化锌、氧化锡、氧化铈、陶瓷胶辊印油配制成的浮雕幻影印花釉。其中基础釉粉由熔块c、高岭土、羧甲基纤维素、三聚磷酸钠、水配制而成。在砖坯上依次施底釉、面釉后印浮雕幻影印花釉和喷墨印花，最后烧制成浮雕幻影釉面砖。该产品具有独特的装饰效果及视觉美感，而且各项指标均达到标准要求，具备较强的普适性，易于在行业内推广。

主权项

一种浮雕幻影釉面砖的釉，其特征在于包括有：底釉，其组分的重量份配比为：熔块b 38～40份、硅酸锆6～8份、高岭土10～12份、煅烧高岭土6～8份、钾长石粉9～11份、烧滑石7～9份、氧化铝粉6～8份、石英粉9～11份、羧甲基纤维素0.05～0.1份、三聚磷酸钠0.4～0.6份以及水37～40份；面釉，其组分的重量份配比为：熔块a 45～55份、熔块b 25～35份、熔块c 10～20份、高岭土2～4份、羧甲基纤维素0.04～0.06份、三聚磷酸钠0.2～0.4份以及水37～40份；以及浮雕幻影印花釉，其组分的重量份配比为：基础釉粉100份、氧化锌1～2份、氧化锡0.4～0.6份、氧化铈0.5～1份以及陶瓷胶辊印油140～160份；其中所述熔块a的化学成分的重量百分比为：SiO₂ 62.5～64.5％、Al₂O₃ 5.5～7.5％、CaO 8.5～9.5％、MgO 1～3％、K₂O 1～3％、Na₂O 0.3～0.5％、ZnO 8.5～10.5％、ZrO₂ 6.5～8.5％以及B₂O₃ 2～4％；所述熔块b的化学成分的重量百分比为：SiO₂ 55～57％、Al₂O₃ 4～6％、CaO 10～11％、MgO 1～2％、K₂O 1.5～2.5％、Na₂O 0.1～0.3％、ZnO 11～12％、ZrO₂ 9～11％以及B₂O₃ 5～6％；所述熔块c的化学成分的重量百分比为：SiO₂ 57.5～58.5％、Al₂O₃ 8～9％、CaO 11.5～12.5％、K₂O 4～5％、Na₂O 0.1～0.3％、ZnO 12.5～13.5％、ZrO₂ 1.5～2.5％以及PbO 0.4～0.6％；所述基础釉粉的组分的重量份配比为：熔块c 100份、高岭土2～4份、羧甲基纤维素0.06～0.08份、三聚磷酸钠0.2～0.4份以及水37～40份。