发明名称 |
升降装置和真空镀膜腔室 |
摘要 |
本实用新型涉及一种升降装置和具有该升降装置的真空镀膜腔室,该升降装置包括上板和下板,所述下板在与上板相对的顶面上设有斜块,所述上板在与下板相对的底面设有导轮,所述导轮与斜块的斜面保持接触并能顺着斜面滑动,所述下板设有一驱动机构,用于驱动下板做沿着斜面延伸方向的水平运动,以带动上板升降。该升降装置通过斜块和导轮配合,在驱动机构的驱动下,下板水平线性运动,导轮沿着斜面运动,带动上板做升降运动。该升降装置调节精度高,能做到无级调节。而且该升降装置无需复杂的导轨导滑结构,结构紧凑,成本低,操作便利,效率高,可广泛应用在真空镀膜腔室等设备中。 |
申请公布号 |
CN204779780U |
申请公布日期 |
2015.11.18 |
申请号 |
CN201520244969.3 |
申请日期 |
2015.04.21 |
申请人 |
爱发科豪威光电薄膜科技(深圳)有限公司 |
发明人 |
徐旻生;庄炳河;王应斌;龚文志;崔汉夫;李永杰;张永琪 |
分类号 |
C23C14/22(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/22(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市翼智博知识产权事务所(普通合伙) 44320 |
代理人 |
彭年才 |
主权项 |
一种升降装置,其特征在于,包括上板和下板,所述下板在与上板相对的顶面上设有斜块,所述上板在与下板相对的底面设有导轮,所述导轮与斜块的斜面保持接触并能顺着斜面滑动,所述下板设有一驱动机构,用于驱动下板做沿着斜面延伸方向的水平运动,以带动上板升降。 |
地址 |
518000 广东省深圳市南山区科技园北区朗山二号路豪威大厦二楼 |